公开/公告号CN104327427A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-02-04
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州华冲精密机械有限公司;
申请/专利号CN201410570579.5
发明设计人 付冲;
申请日2014-10-23
分类号C08L27/16;C08K3/04;
代理机构北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人袁红红
地址 215151 江苏省苏州市高新区浒关工业园青花路26号9栋
入库时间 2023-12-17 02:44:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-07
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08L27/16 申请公布日:20150204 申请日:20141023
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-03-11
实质审查的生效 IPC(主分类):C08L27/16 申请日:20141023
实质审查的生效
2015-02-04
公开
公开
机译: 一种具有高介电常数栅氧化膜形成方法,边界层还原法,高介电常数栅绝缘膜,高介电常数栅绝缘膜和高k栅氧化膜的晶体管,
机译: 减小界面层的厚度的方法,形成高介电常数栅极绝缘膜的方法,高介电常数栅极绝缘膜,高介电常数栅极氧化膜以及具有高介电常数栅极氧化膜的晶体管
机译: 减小界面层厚度的方法,高介电常数栅极绝缘膜的形成方法,高介电常数栅极绝缘膜,高介电常数栅极氧化膜以及具有高介电常数栅极氧化膜的晶体管