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用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法

摘要

本发明属于光轴加工技术领域,具体而言,涉及一种用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法包括以下步骤:(1)将光轴放入空气加热炉,在300-450℃下,预热20-40min(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550-630℃下经氮碳镧离子渗剂渗入处理90-150min(3)接着放入离子活化炉,在450-550℃下经离子活化渗剂渗入处理30-90min(4)再放入氧离子渗入炉,在370-430℃下经氧离子渗剂渗入处理15-30min(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120-200℃下进行离子稳定化处理20-50min(7)将处理后的光轴浸油处理。

著录项

  • 公开/公告号CN104195506A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都伍田机械技术有限责任公司;

    申请/专利号CN201410443204.2

  • 发明设计人 罗德福;漆世荣;

    申请日2014-09-02

  • 分类号

  • 代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴开磊

  • 地址 611400 四川省成都市新津县工业园区A区兴园8路

  • 入库时间 2023-12-17 02:39:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-15

    授权

    授权

  • 2015-01-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C12/00 申请日:20140902

    实质审查的生效

  • 2014-12-10

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明属于光轴加工技术领域,具体而言,涉及一种用于提高 光轴耐蚀性和耐磨性的方法。

背景技术

光轴包括普通光轴,镀铬光轴,镀铬软轴,不锈钢轴,镀铬空 心轴。光轴在使用过程中,会与光轴或非光轴接触,由于摩擦而引 起其表面磨损;由于与四周介质接触时发生化学作用或电化学作用 而引起其表面锈蚀。光轴遭到腐蚀和磨损后,影响设备的传动性能 和精度,严重制约设备的稳定性。因此,人们不断地研究光轴的失 效机理并采取相应的防范措施。

目前,提高光轴性能的方法主要有:采用不锈钢制造光轴,但 价格较高,并且耐磨性不够;或者在光轴表面镀铬,但镀铬一方面 产生重金属铬和镀铬零部件在使用过程中会二次产生重金属铬,铬 被人体吸收后具有致癌和诱发基因突变的危险;另一方面镀铬工艺 本身在性能上也存在一些局限性;再有欧美国家严厉禁止进口我国 镀铬的相关产品。所以,目前在对于提高光轴的性能方面,尤其对 于提高光轴的耐蚀性方面还存在很大的研究空间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方 法。

本发明是这样实现的,用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法, 包括以下步骤:

(1)将光轴放入空气加热炉,在300-450℃下,预热20-40min;

(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550-630℃下 经氮碳镧离子渗剂渗入处理90-150min;

(3)接着放入离子活化炉,在450-550℃下经离子活化渗剂渗 入处理30-90min;

(4)再放入氧离子渗入炉,在370-430℃下经氧离子渗剂渗入 处理15-30min;

(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理;

(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120-200℃下进 行离子稳定化处理20-50min;

(7)将处理后的光轴浸油处理。

本发明中,光轴基体表面经氮碳镧离子渗剂处理,氮碳镧离子 渗剂中的离子在光轴基体表面形成预期厚度的渗层,该渗层由金属 元素的氮碳化合物以及氮在铁中的固溶体组成,具有高耐磨和高耐 蚀的特性。之后,经活化离子渗剂进一步渗入并向基体方向扩散, 再次完成扩散以及吸附过程,调整金属元素的氮碳化合物的比例和 增加复合渗层厚度,从而提高光轴基体的抗疲劳性能。最后,通过 氧离子渗剂渗入处理,残留于光轴表面的离子活化渗剂与氧离子渗 剂反应、形成的渗层为一部分氧以间隙形式溶入化合物晶格中,另 一部分氧在表面形成金属氧化层,从而进一步提高光轴的耐蚀性能。 最后通过离子稳定化处理进一步提高渗层的稳定性和致密性。

本发明通过将非金属元素和微量金属元素渗入进光轴基体的表 面中,在光轴基体的表面形成复合化合物层以及金属氧化层,不仅 极大地提高了光轴的耐磨性和耐蚀性,并且对环境没有污染。

本发明所用渗剂中有益活性离子稳定性好,随着所述光轴制备 方法的进行,活性离子浓度的下降呈现一定规律,通过化学分析检 测手段对离子浓度进行分析,能定量调节渗剂中活性离子的浓度, 同时通过改变渗入温度和渗入时间,可有效控制复合渗层中物相的 比例,并得到预期的渗层厚度。

优选地,步骤(1)中,将所述光轴进行预热之前,还包括将所 述光轴的表面清洗干净;

所述光轴在400-450℃下预热30-35min。

优选地,步骤(2)中,所述氮碳镧离子渗剂按重量百分比计, 由以下组分混合制成:

Na2CO310%-15%,K2CO310%-20%,NaCNO55%-65%,CeCO3l%-3%,Li2CO35%-10%,La2CO30.03-1%;

将预热后的所述光轴经氮碳镧离子渗剂渗入处理的温度为 590-630℃,时间为80-100min。

优选地,步骤(2)中,所述氮碳镧离子渗剂按重量百分比计, 由以下组分混合制成:

Na2CO310%-13%,K2CO313%-18%,NaCNO55%-60%,CeCO3l%-3%,Li2CO35%-8%,La2CO30.03-0.08%。

优选地,步骤(3)中,所述离子活化渗剂以质量百分比计,由 以下组分混合制成:Na2S045%-10%,Na2CO310%-20%,K2CO310% -20%,CO(NH2)230%-45%,K2SO31%-3%,CeCO3l%-3%, LiOH5%-10%,KCl5%-15%;

所述光轴经离子活化渗剂渗入处理的温度为500-550℃,时间 为80-100min。

优选地,步骤(3)中,所述离子活化渗剂按重量百分比计,由 以下组分混合制成:

Na2S045%-8%,Na2CO310%-15%,K2CO310%-15%,CO(NH2)235%-40%,K2SO32%-3%,CeCO32%-3%,LiOH8%-10%, KCl5%-10%。

优选地,步骤(4)中,所述氧离子渗剂按重量百分比计,由以 下组分混合制成:

Na2CO320%-30%,NaNO220%-30%,NaNO330%-40%,CeSO410%-20%;

所述光轴经氧离子渗剂渗入处理的温度为400-420℃,时间为 20-25min。

优选地,步骤(4)中,所述氧离子渗剂按重量百分比计,由以 下组分混合制成:

Na2CO325%-28%,NaNO225%-28%,NaNO332%-38%, CeSO415%-18%。

优选地,步骤(6)中,所述离子稳定剂按重量百分比计,由以 下组分混合制成:烷烃80-93%、环烷烃5-15%、聚烯烃1-5%、元 明粉0.2-1%。

优选地,步骤(7)中,所述浸油处理具体包括,将所述光轴进 入盛装10-20#机油的油槽,浸油时间3-10min。

附图说明

图1为利用本发明提供的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法 制成的黑金光轴的剖面图;

图2为利用本发明提供的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法 制成的黑金光轴的截面图;

图3为利用本发明实施例1的提供的用于提高光轴耐蚀性和耐 磨性的方法制成的黑金光轴试样与镀铬试样进行中性盐雾试验对比 图;

图4为镀铬试样和本发明实施例1的提供的试样表现出的耐磨 性能测试对比曲线图;

图5为利用本发明实施例3提供的黑金光轴,将两端用密封剂 密封,光轴放置于垂直方向呈15~30°的效果图;

图6为利用本发明实施例3提供的黑金光轴,500小时连续试 验,光轴连续504小时试验后情况的效果图。

具体实施方式

下面通过具体的实施例子结合附图对本发明做进一步的详细描 述。

本发明提供了一个实施例,详细介绍用于提高光轴耐蚀性和耐 磨性的的渗入方法,包括以下步骤:

(1)将光轴放入空气加热炉,在300-450℃下,预热20-40min;

预热是为了烤干残留在光轴表面的水分,使光轴处理后外观更 一致,不产生表面缺陷,同时预热对元素的渗入也有一定的催化作 用。

将所述光轴进行预热之前,还包括将所述光轴的表面清洗干净;

优选地,所述光轴在空气加热炉中处理的温度为400-450℃, 时间为30-35min。

(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550-630℃下 经氮碳镧离子渗剂渗入处理90-150min;

所述氮碳镧离子渗剂按重量百分比计,由以下组分混合制成:

Na2CO310%-15%,K2CO310%-20%,NaCNO55%-65%,CeCO3l%-3%,Li2CO35%-10%,La2CO30.03-1%;

优选地,所述氮碳镧离子渗剂按重量百分比计,由以下组分混 合制成:

Na2CO310%-13%,K2CO313%-18%,NaCNO55%-60%,CeCO3l%-3%,Li2CO35%-8%,La2CO30.03-0.08%。

优选地,将预热后的所述光轴经氮碳镧离子渗剂渗入处理的温 度为590-630℃,时间为80-100min。

在氮碳镧离子渗剂中的活性离子分解、扩散以及吸附过程中, 在光轴基体表面形成预期厚度的渗层;该渗层由金属元素的氮碳化 合物以及氮在铁中的固溶体组成,具有高耐磨和高耐蚀的特性。

(3)接着放入离子活化炉,在450-550℃下经离子活化渗剂渗 入处理30-90min;

所述离子活化渗剂以质量百分比计,由以下组分混合制成:

Na2S045%-10%,Na2CO310%-20%,K2CO310%-20%,CO(NH2)230%-45%,K2SO31%-3%,CeCO3l%-3%,LiOH5%-10%,KCl5%-15%;

优选地,所述离子活化渗剂按重量百分比计,由以下组分混合 制成:

Na2S045%-8%,Na2CO310%-15%,K2CO310%-15%,CO(NH2)235%-40%,K2SO32%-3%,CeCO32%-3%,LiOH8%-10%, KCl5%-10%。

优选地,所述光轴经离子活化渗剂渗入处理的温度为 500-550℃,时间为80-100min。

吸附于光轴基体表面的活性离子进一步活化并向光轴基体方 向,再次完成扩散以及吸附过程,进一步调整氮碳化合物的比例及 进一步增加渗层的厚度,从而提高光轴抗疲劳的性能。

(4)放入氧离子渗入炉,在370-430℃下经氧离子渗剂渗入处 理15-30min;

所述氧离子渗剂按重量百分比计,由以下组分混合制成:

Na2CO320%-30%,NaNO220%-30%,NaNO330%-40%,CeSO410%-20%;

优选地,所述氧离子渗剂按重量百分比计,由以下组分混合制 成:

Na2CO325%-28%,NaNO225%-28%,NaNO332%-38%, CeSO415%-18%。

优选地,所述光轴经氧离子渗剂渗入处理的温度为400-420℃, 时间为20-25min。

残留于光轴表面的离子活化渗剂与氧离子渗入炉中的渗剂反 应,形成的渗层为一部分氧以间隙形式溶入化合物晶格中,另一部 分氧在表面形成金属氧化层。

(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理;

清除光轴表面渗剂时,可以用水清洗干净后烘干或自然风干。

(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120-200℃下进 行离子稳定化20-50min;

所述离子稳定剂按重量百分比计,由以下组分混合制成:烷烃 80-93%、环烷烃5-15%、聚烯烃1-5%、元明粉0.2-1%。

优选地,所述离子稳定剂按重量百分比计,由以下组分混合制 成:烷烃85-90%、环烷烃8-12%、聚烯烃2-4%、元明粉0.5-0.8%。

离子稳定化的过程可以提高复合渗层的稳定性以及渗层的致密 度。

(7)将处理后的光轴浸油处理。

所述浸油处理具体包括,将光轴进入盛装10-20#机油的油槽, 浸油时间3-10min,进一步增加其耐蚀性。

本发明中,采用空气加热炉预热能增强预热效果,采用氮碳镧 离子渗入炉进行渗入处理可以更好的控制温度以及时间,增强渗入 处理的效果,采用离子活化炉以更好的控制离子活化渗入处理的温 度以及时间,采用氧离子渗入炉可以更好的控制氧离子渗入处理的 温度以及时间,使得最终得到的光轴具有更好的防腐性。

本发明实施例提供的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法,与 现有技术方法相比,不仅提高光轴的耐蚀性和耐磨性效果显著,性 能稳定,并且不对环境造成污染。

下面通过具体例子详细介绍本发明提供的用于提高光轴耐蚀性 和耐磨性的方法。

实施例1:

对材料为45钢的光轴进行前清洗,清除光轴表面油污和表面锈 迹;将光轴在390℃下预热20min,后经氮碳镧离子渗剂在570℃下 渗入处理120min;其中氮碳镧离子渗剂按重量百分比计包括以下组 分:Na2CO313%,K2CO313%,NaCNO65%,CeCO32%,Li2CO36%, La2CO31%;之后再经离子活化渗剂530℃下渗入处理60min;离子 活化渗剂按重量百分比计包括以下组分:Na2S0410%,Na2CO316%, K2CO315%,CO(NH2)245%,K2SO32%,CeCO32%,LiOH5%,KCl 5%;最后经氧离子渗剂在400℃下渗入处理30min,氧离子渗剂按 重量百分比计包括以下组分:Na2CO320%,NaNO220%,NaNO340%, CeSO420%;

如图1和图2所示,在光轴的表面上由内至外依次形成复合化 合物层1以及金属氧化层2;清除光轴表面渗剂,用水清洗干净, 烘干;将光轴在170℃下经离子稳定化处理25min;离子稳定剂按 重量百分比包括以下组分:烷烃80%、环烷烃15%、聚烯烃4%、 元明粉1%;经离子稳定化的光轴进入盛装10#机油的油槽,浸油时 间5min。

经过上述方法制备出的黑金光轴中,复合化合物层以及所述金 属氧化层的厚度为19μm,硬度为540Hv。

实施例2:

对材料为GCr15的光轴进行前清洗,清除光轴表面油污和表面 锈迹,将光轴在450℃下预热40min,将预热后的光轴经氮碳镧离 子渗剂在590℃下渗入处理90min;其中氮碳镧离子渗剂按重量百 分比计包括以下组分:Na2CO315%,K2CO315%,NaCNO 60%, CeCO33%,Li2CO36.97%,La2CO30.03%;

再经离子活化渗剂550℃下渗入处理90min;离子活化渗剂按 重量百分比计包括以下组分:Na2SO45%,Na2CO320%,K2CO314%, CO(NH2)230%,K2SO33%,CeCO33%,LiOH10%,KCl 15%;

之后将光轴经氧离子渗剂430℃下渗入处理30min;氧离子渗 剂按重量百分比计包括以下组分:Na2CO330%,NaNO230%, NaNO330%,CeSO410%;

如图1和图2所示,在光轴的表面上由内至外依次形成复合化 合物层1以及金属氧化层2;清除光轴表面渗剂,用水清洗干净, 自然干;将光轴180℃下经离子稳定化处理20min;离子稳定剂按 重量百分比包括以下组分:烷烃93%、环烷烃5%、聚烯烃1.8%、 元明粉0.2%;经离子稳定化的光轴进入盛装20#机油的油槽,浸油 时间9min。

经过上述方法制备出的黑金光轴,复合化合物层以及所述金属 氧化层的厚度为23μm,硬度为730Hv。

实施例3:

对材料为40MnV的光轴进行前清洗,清除光轴表面油污和表 面锈迹,将光轴在400℃下预热30min;将上述加热后的光轴经氮 碳镧离子渗剂610℃下渗入处理80min;其中氮碳镧离子渗剂按重 量百分比计包括以下组分:Na2CO312%,K2CO320%,NaCNO 57%, CeCO33%,Li2CO37.95%,La2CO30.05%;

再将上述步骤处理过的光轴经离子活化渗剂在500℃下渗入处 理100min;离子活化渗剂按重量百分比计包括以下组分:Na2SO48%,Na2CO310%,K2CO320%,CO(NH2)241%,K2SO32%,CeCO32%,LiOH 7%,KCl 10%;

再将光轴经氧离子渗剂400℃下渗入处理20min,氧离子渗剂 按重量百分比计包括以下组分:Na2CO325%,NaNO225%, NaNO332%,CeSO418%;

如图1和图2所示,在光轴的表面上由内至外依次形成复合化 合物层1以及金属氧化层2;清除光轴表面渗剂,用水清洗干净, 自然干;将光轴160℃下经离子稳定化处理30min;离子稳定剂按 重量百分比包括以下组分:烷烃93%、环烷烃5%、聚烯烃1%、元 明粉1%;经离子稳定化的光轴进入盛装20#机油的油槽,浸油时间 10min;

经过上述方法制备出的黑金光轴,复合化合物层以及所述金属 氧化层的厚度为31μm,硬度为650Hv。

实施例4:

对材料为304的不锈钢光轴进行前清洗,清除光轴表面油污和 表面锈迹;将光轴420℃下预热32min,预热后的光轴经氮碳镧离 子渗剂580℃下渗入处理100min;其中氮碳镧离子渗剂按重量百分 比计包括以下组分:Na2CO315%,K2CO316%,NaCNO 55%,CeCO33%,Li2CO310%,La2CO31%;

将上述步骤处理过的光轴经离子活化渗剂渗入处理,操作温度 为520℃,时间为80min;离子活化渗剂按重量百分比计包括以下 组分:Na2SO47%,Na2CO317%,K2CO317%,CO(NH2)236%,K2SO3 1%,CeCO32%,LiOH 8%,KCl 12%;

再将光轴经氧离子渗剂渗入处理,操作温度为420℃,时间为 25min;氧离子渗剂按重量百分比计包括以下组分:Na2CO328%, NaNO225%,NaNO332%,CeSO415%;如图1和图2所示,在光轴 的表面由内至外依次形成复合化合物层1以及金属氧化层2,

清除光轴表面渗剂,用水清洗干净,自然干;将光轴经离子稳 定化处理,操作温度为150℃,时间为40min;离子稳定剂按重量 百分比包括以下组分:烷烃89%、环烷烃5%、聚烯烃5%、元明粉 1%;经离子稳定化的光轴进入盛装20#机油的油槽,浸油时间8min;

经过上述方法制备出的黑金光轴,复合化合物层以及所述金属 氧化层的厚度为48μm,硬度为1030Hv。

实施例5:

将由45#钢制成的光轴进行前清洗,清除光轴表面油污和表面 锈迹;将光轴370℃下预热35min;将上述加热后的光轴经氮碳镧 离子渗剂渗入处理,操作温度为630℃,时间为90min;其中氮碳 镧离子渗剂按重量百分比计包括以下组分:Na2CO315%,K2CO320%,NaCNO 55%,CeCO33%,Li2CO36%,La2CO31%;

将上述步骤处理过的光轴经离子活化渗剂渗入处理,操作温度 为530℃,时间为45min;离子活化渗剂按重量百分比计包括以下 组分:Na2SO46%,Na2CO315%,K2CO317%,CO(NH2)240%,K2SO31%,CeCO32%,LiOH 7%,KCl 12%;

再将光轴经氧离子渗剂渗入处理,操作温度为380℃,时间为 30min;氧离子渗剂按重量百分比计包括以下组分:Na2CO325%, NaNO225%,NaNO335%,CeSO415%;

如图1和图2所示,在光轴的表面由内至外依次形成复合化合 物层1以及金属氧化层2,清除光轴表面渗剂,用水清洗干净,自 然干;将光轴经离子稳定化处理,操作温度为140℃,时间为50min; 离子稳定剂按重量百分比包括以下组分:烷烃85%、环烷烃12%、 聚烯烃2.5%、元明粉0.5%;经离子稳定化的光轴进入盛装10#机油 的油槽,浸油时间10min;

经过上述方法制备出的黑金光轴,复合化合物层以及所述金属 氧化层的厚度为43μm,硬度为560Hv。

由上述5个实施例可以看出,通过本发明提供的方法,与现有 技术方法相比,本发明提供的方法是将非金属元素和微量金属元素 渗入到光轴表面,在其表面形成高性能的耐磨防腐层,质量稳定, 在光轴表面形成了一定厚度的防腐耐蚀层,并且也具有很好的硬度, 对环境无污染。

实验例1:

将本发明实施例1的方法制备出的试样与镀铬试样进行滑动磨 损试验和中性盐雾试验对比,其中镀铬试样由山西长治清华机械公 司提供。

中性盐雾试验按GB/T10125相关条款进行实验。试验仪器为 KD60盐雾试验机,试验参数为:试验室温度35℃,压力桶温度47℃, 喷雾压力17psi,试验时间216h;从试验结果可以看到,镀铬试样在 本试验后,锈蚀相当严重;而按本发明实施例1的方法制备出的试 样在216小时以内均未出现锈迹。具体试验效果见图3。

实验例2:

滑动磨损试验按照GB/T12444.1-1990的规定进行。试验仪器为 MM-200型试验机。试验参数为:对磨副材料GCr15圆环,外径 40mm,硬度HRC57;采用失重法测定磨损量,从实验结果可以得 到,在刚开始的两个小时内镀铬试样和本发明实施例1的方法制备 出的试样表现出的耐磨性能大体相同,后四个小时则表现出,镀铬 试样的失重斜率高于本发明实施例1的方法制备出的试样失重斜 率,说明经本发明实施例1的方法制备出的试样的耐磨性高于镀铬 工艺处理的试样。具体试验效果见图4。

实验例3:

分别取用本发明的实施例3的制备方法制备出的黑金光轴进行 中性盐雾试验。

中性盐雾试验按GB/T10125相关条款进行实验。试验仪器为 KD60盐雾试验机,试验参数为:试验室温度35℃,压力桶温度47℃, 喷雾压力17psi,试样为每组4根黑金光轴,光轴两端用密封剂密封, 光轴放置于垂直方向呈15~30°,500小时连续试验,间隔12小时 观察一次,出现第一个绣点时记录时间,取平均值为腐蚀时间;同 时观察光轴连续504小时试验后的腐蚀情况;具体试验效果见下表 1以及图5、图6。

表1

从表1和光轴连续504小时试验后的腐蚀情况可以看出,经过 504小时试验后,四根黑金光轴均未出现生锈,说明本发明的黑金 光轴具有高的抗蚀性。具体效果见图6。

实验例4:

分别取用本发明的实施例5的制备方法制备出的光轴3批次进 行中性盐雾试验。

中性盐雾试验按GB/T10125相关条款进行实验。试验仪器为 KD60盐雾试验机,试验参数为:试验室温度35℃,压力桶温度47℃, 喷雾压力17psi,试样为每组7根黑金光轴,光轴两端用密封剂密封, 试样放置于垂直方向呈15~30°,连续试验,出现第一个绣点时记 录时间,取平均值为腐蚀时间;具体试验结果见表2。

表2:3组黑金光轴中性盐雾试验

序号 试验结果 1 >1000小时 2 >1000小时 3 >1000小时

从表2可以看出,3批次按本发明实施例5的方法制备出的光 轴在1000小时以内均未出现锈点。说明本发明的黑金光轴具有极高 的抗蚀性。

本发明适用所有制造光轴的材质:如35钢、40Cr、35CrMo、 42CrMo、3Cr13、4Cr13、2Cr13、304不锈钢、YF35V、YF35MnV、 YF45V、YF45MnV、YF40MnV、F40V、F40MnV、F40MnB、F35MnVN 各种大小规格的光轴。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明, 对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在 本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等, 均应包含在本发明的保护范围之内。

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