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磁共振成像装置、磁共振成像装置用的磁场调整件、磁共振成像方法及磁共振成像装置的磁场调整方法

摘要

本发明的磁共振成像装置用的磁场调整件具备磁场调整单元及设置单元。磁场调整单元被设置在磁共振成像装置的磁铁的外部,受到设置有所述磁铁的屏蔽室内的环境的影响,提高由所述磁铁形成的静磁场的均匀性。设置单元将所述磁场调整单元设置在所述磁铁的外部。另外,本发明的磁共振成像装置具备成像单元及磁场调整单元。成像单元,由磁铁形成静磁场,从被诊视床送入到形成于所述磁铁内的磁共振信号的收集区域的被检体收集磁共振信号,从而进行磁共振成像。磁场调整单元被设置在所述磁铁的外部,受到设置有所述磁铁的屏蔽室内的环境的影响,提高由所述磁铁形成的静磁场的均匀性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-17

    专利权的转移 IPC(主分类):A61B5/055 登记生效日:20160729 变更前: 变更后: 申请日:20120507

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-06-17

    授权

    授权

  • 2013-03-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B5/055 申请日:20120507

    实质审查的生效

  • 2013-01-30

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明的实施方式涉及磁共振成像(MRI:Magnetic Resonance  Imaging)装置、磁共振成像装置用的磁场调整件、磁共振成像方法及磁共 振成像装置的磁场调整方法。

背景技术

MRI是一种用拉莫尔频率的高频(RF:radio frequency)信号对放置 在静磁场中的被检体的原子核自旋(Nuclear Spin)进行磁激励,由伴随 该激励产生的核磁共振(NMR:nuclear magnetic resonance)信号重新构 成图像的摄像法。

MRI装置所具备的静磁场导磁铁为了成像而生成高强度的静磁场。因 此,为了避免给周围的电子设备造成磁影响,MRI装置被设置在相对于磁性 具有作为屏蔽室的功能的摄影室内。

在近年的MRI装置中,作为静磁场磁铁,使用超导磁铁。因此,能够 在摄像空间中形成1.5[T](特斯拉)以上的高磁场。另一方面,在旧的MRI 装置上,作为静磁场磁铁具备永久磁铁,能够形成0.3[T]以上的磁场,而 最近的MRI装置能够形成0.8[T]左右的磁场。

近年来,将使用了长时间的旧式MRI装置替换成最新的MRI装置的需 求增高。但是,具备永久磁铁的旧式MRI装置的屏蔽室被设计成只能够对 0.3[T]、至多0.8[T]的磁场得到充分的磁屏蔽效果。因此,将形成1.5[T] 以上的高磁场的MRI装置直接设置到现有的狭窄的屏蔽室时,不能忽视从 屏蔽室泄漏的磁场。

为了解决该问题,采用了这样的措施,在屏蔽室的靠近内置有静磁场 磁铁的台架的一侧的墙壁上设置铁片。具体地讲,将具备超导磁铁的MRI 装置设置在屏蔽室内的情况下,调整铁片的厚度等,以使得不会从屏蔽室 泄漏5[G](高斯;1[G]=1×10-4[T])的等磁线。由此,能够在具备永久磁 铁的旧式MRI装置用的屏蔽室中设置具备超导磁铁的MRI装置。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平5-121227号公报

专利文献2:日本特开2003-135425号公报

发明的概要

发明所要解决的技术问题

但是,在屏蔽室的墙壁上设置铁片时,会出现静磁场的均匀性变混乱 的问题。铁片的设置给静磁场均匀性造成的影响取决于铁片与静磁场磁铁 之间的距离。也就是说,静磁场磁铁与铁之间的距离越近,静磁场的均匀 性越低。因此,为了维持静磁场的均匀性,使静磁场磁铁从屏蔽室的壁离 开规定距离是很重要的。

另一方面,为了确保诊视床的空间,静磁场磁铁离屏蔽室的诊视床侧 壁面的距离,与离屏蔽室的诊视床相反侧的壁面的距离相比,必然变长。 也就是说,在将具备超导磁铁的高磁场型MRI装置设置在被设计成用于旧 式MRI装置的狭窄的屏蔽室中的情况下,静磁场磁铁的诊视床相反侧的部 分不得不靠近屏蔽室的壁面。

因此,希望开发出一种即使在静磁场磁铁与屏蔽室的壁面之间的距离 变短的情况下,也能够维持静磁场均匀性的技术。另外,不限于进行新旧 MRI装置更换的情况,即使在新设置MRI装置的情况下,也对应于屏蔽室的 特性和其他介质造成的影响而进一步提高静磁场的均匀性是很重要的。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种磁共振成像装置、磁共振成像装置用的 磁场调整件、磁共振成像方法及磁共振成像装置的磁场调整方法,能够对 应于包括屏蔽室的特性的设置环境来在摄像空间内形成更高均匀性的静磁 场。

解决技术问题所采用的技术手段

本发明的实施方式的磁共振成像装置用的磁场调整件具备磁场调整单 元及设置单元。磁场调整单元被设置在磁共振成像装置的磁铁的外部,受 设置所述磁铁的屏蔽室内的环境的影响,提高由所述磁铁形成的静磁场的 均匀性。设置单元将所述磁场调整单元设置到所述磁铁的外部。

另外,本发明的实施方式的磁共振成像装置具备成像单元及磁场调整 单元。成像单元,由磁铁形成静磁场,从被诊视床送入到形成于所述磁铁 内的磁共振信号的收集区域的被检体收集磁共振信号,从而进行磁共振成 像。磁场调整单元被设置在所述磁铁的外部,受设置所述磁铁的屏蔽室内 的环境的影响,提高由所述磁铁形成的静磁场的均匀性。

另外,本发明的实施方式的磁共振成像方法包括:在磁共振成像装置 的磁铁的外部设置磁场调整单元的步骤;以及通过所述磁场调整单元,受 设置所述磁铁的屏蔽室内的环境的影响,提高由所述磁铁形成的静磁场的 均匀性。

另外,本发明的实施方式的磁共振成像装置的磁场调整方法包括:在 磁共振成像装置的磁铁的外部设置磁场调整单元的步骤;以及通过所述磁 场调整单元,受设置所述磁铁的屏蔽室内的环境的影响,提高由所述磁铁 形成的静磁场的均匀性的步骤。

附图说明

图1是本发明的第1实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图。

图2是图1所示的消除线圈的左侧视图。

图3是示出将图2所示的消除线圈分开的状态的图。

图4是在图1所示的构台的内部设置了包括消除线圈的磁场调整件的 例子的图。

图5是在图1所示的设置了铁片的屏蔽室内设置了磁场调整件的情况 和不设置磁场调整件的情况下,对分别由静磁场用磁铁形成的静磁场的模 拟结果进行比较的图。

图6是本发明的第2实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图。

图7是图6所示的磁场调整件的左侧视图。

图8是示出作为图6所示的磁场调整件而在屏蔽室中固定了铁肋板的 例子的图。

图9是图8所示的磁场调整件的左侧视图。

图10是本发明的第3实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图。

具体实施方式

参照附图来说明本发明的实施方式的磁共振成像装置、磁共振成像装 置用的磁场调整件、磁共振成像方法及磁共振成像装置的磁场调整方法。

(第1实施方式)

图1是本发明的第1实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图。

磁共振成像装置1具有数据收集系统2及控制系统3。数据收集系统2 被设置在形成摄影室的屏蔽室4内。另一方面,控制系统3被设置在屏蔽 室4的外部。

数据收集系统2具有这样的功能,通过对置于静磁场下的被检体O施 加倾斜磁场脉冲及RF脉冲,从被检体O收集NMR信号。因此,数据收集系 统2具有构台(台架)5及诊视床6。在构台5上形成有摄像区域,圆筒状 的静磁场用磁铁7、圆筒状的倾斜磁场线圈8及圆筒状的全身用(WB:whole  body)线圈9等以同轴状内置在构台5中。

静磁场用磁铁7是超导磁铁,在圆筒状的真空容器内设置超导线圈, 并利用冷却液浸渍超导线圈。静磁场用磁铁7是在摄像区域形成静磁场的 磁铁,通常为,在励磁时静磁场电源与超导线圈连接而供给电流,但在被 励磁之后成为非连接状态。

倾斜磁场线圈8被设置在静磁场用磁铁7的内侧。倾斜磁场线圈8由 分别在彼此正交的X轴、Y轴及Z轴方向上形成磁场的多个线圈构成,通过 对供给到构成倾斜磁场线圈8的各线圈的电流进行控制,在摄像区域形成 倾斜磁场。

全身用(WB:whole body)线圈9是设置在倾斜磁场线圈8的内侧的 RF线圈。WB线圈9主要作为向摄像区域发送RF脉冲的发送用RF线圈使用, 但有时也用于NMR信号的接收。

另一方面,诊视床6具备固定顶板10及诊视床驱动装置11。在固定顶 板10上,能够通过具备2个臂12A的支架(stretcher)12来设置可动顶 板13,在该可动顶板13上设置了被检体O。而且,诊视床6被构成为,通 过使诊视床驱动装置11驱动,能够将设置了被检体O的可动顶板13送入 构台5内的NMR信号的收集区域R。

除此之外,在数据收集系统2中设置有用于发送RF信号及用于接收NMR 信号的局部RF线圈。局部RF线圈根据摄像部位和成像目的而被设置在形 成于构台5的内侧的摄像区域的适当部位。作为代表性的局部RF线圈,已 知有例如头部用RF线圈这样的、可装卸于可动顶板13的局部RF线圈、直 接被安装到被检体O上的局部RF线圈等。

另一方面,控制系统3具有:通过向数据收集系统2的各构成要素输 出电流和控制信号来控制数据收集系统2的功能;和通过对在数据收集系 统2中收集到的NMR信号进行图像再构成处理及图像处理而由NMR信号生 成被检体O的MR图像数据的功能。为此,控制系统3具备倾斜磁场电源、 发送器、接收器、顺序控制器及计算机等构成要素。而且,通过由控制系 统3进行的数据收集系统2的控制及收集数据的处理,能够执行被检体O 的MR成像。

另外,屏蔽室4具有通过静磁场用磁铁7来减少泄漏到屏蔽室4外的 静磁场的功能,也就是对磁力的屏蔽功能。因此,屏蔽室4通常由作为强 磁体而容易获取的铁构成。屏蔽室4的尺寸、壁面的厚度等会给屏蔽功能 带来影响的条件,能够根据静磁场用磁铁7的特性,适当地决定为能够充 分减少泄漏磁场。

但是,在被设计成用于设置其他磁共振成像装置的屏蔽室4中设置了 形成更高磁场的磁共振成像装置1的情况下、或者屏蔽室4的尺寸等条件 存在限制的情况下,不能忽视因静磁场用磁铁7而从屏蔽室4泄漏的磁场。

在屏蔽室4的最靠近静磁场用磁铁7的壁面附近,从屏蔽室4泄漏到 外部的磁场的强度最大。由于在内置了静磁场用磁铁7的构台5的一侧设 置诊视床6,所以离屏蔽室4的壁面最近的是构台5的诊视床6相反侧。

于是,在屏蔽室4的与构台5的诊视床6相反侧对置的壁面上设置有 用于防止磁场泄漏的铁片14。例如,铁片14的厚度、尺寸等条件被设定为 不会从屏蔽室4泄漏5[G]的等磁线。

此外,在内置了静磁场用磁铁7的构台5的诊视床6侧设置有磁场调 整件15。磁场调整件15具有这样的功能,受到设置有静磁场用磁铁7的屏 蔽室4内的环境的影响,提高由静磁场用磁铁7形成的静磁场的均匀性。

也就是说,由静磁场用磁铁7形成的静磁场受到设置在屏蔽室4内的 金属等磁体的影响。例如,在静磁场用磁铁7的诊视床6相反侧设置有将 磁通线导向内部的铁片14,相对于此,不能在静磁场用磁铁7的诊视床6 侧的对称位置设置铁片14。结果,因铁片14的影响而导致静磁场不均匀。 除此之外,诊视床6、支架12等含有金属的、屏蔽室4内的设置物也会给 静磁场带来影响。

于是,磁场调整件15构成为与屏蔽室4内的环境对应地来提高静磁场 的均匀性。为此,磁场调整件15具备消除线圈(cancel coil)16、设置 部件17及控制装置18。

图2是图1所示的消除线圈16的左侧视图。

消除线圈16具有这样的功能,通过消除其他构成要素对由静磁场用磁 铁7形成的静磁场造成的影响,来提高NMR信号的收集区域R中的静磁场 的均匀性。尤其是,消除线圈16构成为至少能够消除由设置在屏蔽室4的 壁面上的铁片14给静磁场造成的影响。

设置部件17是将消除线圈16设置在构台5的诊视床6侧的适当位置 的部件。例如,在将消除线圈16放置到屏蔽室4内的情况下,可以由具有 规定重量的物体构成设置部件17。或者,在将消除线圈16固定于屏蔽室4 或磁共振成像装置1的构成要素的情况下,利用螺栓和螺母或插座等安装 部件或焊接等固定部件构成设置部件17。

消除线圈16是主要消除铁片14对静磁场的影响的线圈,所以消除线 圈16只要被设置在至少比屏蔽室4内的NMR信号的收集区域R更靠近诊视 床6侧即可。例如,通过设置部件17将消除线圈16配置在构台5的诊视 床6侧,则即使在构台5的设置后,也能够简单地设置消除线圈16。图1 及图2示出了通过设置部件17,以使诊视床6的固定顶板10位于消除线圈 16内侧的方式来设置消除线圈16的例子。

另外,若缩小消除线圈16与构台5内的静磁场用磁铁7之间的距离, 则即使减小由消除线圈16的线圈卷线的条数N[条]和电流I[A]的乘积表示 的安培次数(NI[A]),也能够充分消除使静磁场的均匀性变差的磁场成分。 也就是说,使消除线圈16越靠近静磁场用磁铁7,越能够减小耗电。

或者,若电流恒定,则能够减小消除线圈16的直径或卷绕数。因此, 能够降低因设置消除线圈16而给操作性带来的不良影响。

在此,图1及图2示出这样的例子,将消除线圈16从构台5引开,通 过设置部件17将消除线圈16配置在诊视床6的比端部略靠中央的位置, 以便在构台5附近的诊视床6附近得到作业空间。

另外,为了进一步消除因设置消除线圈16而给操作性造成的不良影响, 可以将消除线圈16构成为能够通过连接器16A拆分。例如,如图2所示, 消除线圈16由上部和下部的2个线圈零件16B构成,2个线圈零件16B能 够使用2个连接器16A可装拆地连结。此外,只要将2个线圈零件16B的 各一端彼此用铰链16C连结,就能够对消除线圈16进行开闭。

图3是示出将图2所示的消除线圈16分开的状态的图。

如图3所示,只要使用铰链16C和连接器16A将消除线圈16的各线圈 零件16B连结,就能够对消除线圈16进行开闭。由此,在设置被检体O或 使用支架12来设置可动顶板13时,能够避免因消除线圈16造成干扰。也 就是说,能够利用支架12来容易地设置被检体O和可动顶板13。

另一方面,控制装置18是对供给到消除线圈16的电流进行控制的装 置。控制装置18使用电源18A及计算机18B构成。如图1、图2及图3所 示,控制装置18可以被收纳在设置部件17的内部。

电源18A构成为依照来自计算机18B的控制信号向消除线圈16供给电 流。

通过使计算机18B的运算装置读取程序,能够设置电源18A的控制功 能。因此,通过由计算机18B对电源18A进行控制,能够从电源18A向消 除线圈16供给用于提高NMR信号的收集区域R中的静磁场的均匀性的、与 屏蔽室4内的环境相应的最佳电流。

对于应供给到消除线圈16的适当的电流值,可以在放置磁共振成像装 置1时或对其进行定期维护时,调整供给到消除线圈16的电流,作为静磁 场的均匀性最良好时的电流值而预先进行计测。或者,通过模拟来事先计 算与屏蔽室4内的环境对应的适当的消除线圈16的电流值。

应供给到消除线圈16的电流值根据给静磁场造成影响的屏蔽室4内的 设置物而改变。也就是说,除了设置在屏蔽室4内的铁片14之外,应供给 到消除线圈16的电流值还根据诊视床6的类型或有无支架12等条件而改 变。

而且,可以将通过计测或计算得到的、与屏蔽室4内的设置物等环境 对应的应供给到消除线圈16的适当的电流值作为预设值存储到计算机18B 的存储装置中。也就是说,将屏蔽室4内的设置物的每个种类的适当的消 除线圈16的电流值作为预设值的表保存在存储装置中。

然后,从计算机18B的存储装置读取与屏蔽室4内的环境对应的电流 值,从计算机18B作为控制信号输出到电源18A,从而能够从电源18A向消 除线圈16供给与屏蔽室4内的环境对应的电流值的电流。由此,即使在更 换屏蔽室4内的诊视床6的情况或利用支架12的情况这样的、更详细的磁 场环境改变的情况下,也能够通过由消除线圈16形成的磁场来抵消设置物 给静磁场的均匀性带来的影响。

若将磁场调整件15设置在屏蔽室4内,则除了上述的提高在NMR信号 的收集区域R中的静磁场的均匀性的效果之外,还能够得到减少从屏蔽室4 泄漏的磁场的效果。因此,在静磁场用磁铁7的外部的期望位置上配置规 定数量的磁场调整件15。

例如,若将包括消除线圈16的磁场调整件15设置在静磁场用磁铁7 的诊视床6相反侧,则能够减少从与静磁场用磁铁7的诊视床6相反侧面 对的屏蔽室4泄漏的磁场。因此,若在构台5的诊视床6相反侧设置消除 线圈16,则能够比铁片14更好地对应于屏蔽室4内的磁场环境来防止从屏 蔽室4的磁场泄漏。因此,能够省略设置铁片14。

相反,若将消除线圈16设置在构台5的诊视床6侧的被检体O附近, 则还能够得到这样的效果,在被检体O上装配有金属的情况下,通过检测 消除线圈16内的异常的电流变化,能够探测到金属。由此,能够预防装配 在被检体O上的金属被静磁场用磁铁7吸引的吸引事故。

消除线圈16只要是在屏蔽室4内即可,可以被固定或放置在期望的对 象物上。图1、图2及图3示出通过设置部件17将消除线圈16放置在屏蔽 室4的地面上的例子。但是,也可以通过设置部件17将消除线圈16固定 在诊视床6、构台5等对象物上。另外,也可以将消除线圈16设置在构台 5的内部。

图4是示出在图1所示的构台5的内部设置了包括消除线圈16的磁场 调整件15的例子的图。

例如,如图4所示,也可以在构台5内的NMR信号的收集区域R外的 两侧分别内置磁场调整件15的消除线圈16。也就是说,通过设置部件17 将消除线圈16固定在构台5的内部。

在该情况下,若将消除线圈16配置在静磁场用磁铁7的内侧或外侧, 则能够缩短构台5在轴向上的长度。图4示出将消除线圈16配置在WB线 圈9内侧的例子。但是,也可以将消除线圈16配置在构台5内的构成要素 之间的间隙或构台5内的静磁场用磁铁7的两端的外侧。

如图4所示,若将消除线圈16内置在构台5中,则能够有效利用屏蔽 室4内的空间。另外,能够使消除线圈16靠近静磁场用磁铁7。此外,消 除线圈16的控制装置18可以被内置在构台5内或设置在构台5外。另外, 如图4所示,若在静磁场用磁铁7的诊视床6相反侧也设置消除线圈16, 则能够省略设置在屏蔽室4的壁面上的铁片14。

根据这样构成的磁共振成像装置1及磁场调整件15,即使比以往更靠 近屏蔽室4的壁面地设置静磁场用磁铁7,也能够通过设置在静磁场用磁铁 7两侧的铁片14及磁场调整件15来防止从屏蔽室4向外部泄漏磁场,并且 提高静磁场的均匀性。换言之,即使在比以往窄的屏蔽室4中,也能够设 置磁共振成像装置1。

其结果,能够在被设计成用于具备电导磁铁或永久磁铁的低磁场型磁 共振成像装置的屏蔽室中,导入具备超导磁铁的磁共振成像装置1,该超导 磁铁形成1.5[T]以上的高磁场。

例如,如图1所示,在屏蔽室4的最靠近构台5的壁面上设置了防磁 场泄漏用的铁片14的情况下,仍能够良好地保持静磁场的均匀性。

图5是示出在图1所示的设置了铁片14的屏蔽室4内设置了磁场调整 件15的情况和未设置磁场调整件15的情况下,对分别由静磁场用磁铁7 形成的静磁场的模拟结果进行比较的图。

在图5(A)、(B)中,各横轴表示摄像区域的X轴,各纵轴表示摄像区 域的Z轴,曲线表示在0.5×0.5[m]的XZ面上的等磁线。另外,图5(A) 表示在未设置磁场调整件15的情况下形成在XZ面上的静磁场分布的模拟 结果,图5(B)表示在设置了磁场调整件15的情况下形成在XZ面上的静 磁场分布的模拟结果。

如图1所示,在屏蔽室4的壁面上设置了铁片14时,由1.5[T]的静磁 场用磁铁7形成的静磁场受到铁片14的影响,成为图5(A)所示的分布。 在该情况下,由经验可知,静磁场在Z轴向上的斜率为大致线形。也就是 说,静磁场在Z轴向上的变形由称之为Z1项的1次线性成分占主导地位。 因此,在Z轴向上的等磁线的间隔大致均等。

相对于此,在从距静磁场的中心起1200mm的位置、即Z=-1200mm的位 置上,以半径R=500mm设置NI=6[kA]的消除线圈16时,能够得到图5(B) 所示的静磁场分布。根据图5(B),能够确认到等磁线的间隔明显比图5(A) 所示的等磁线的间隔大。也就是说,等磁线的密度明显减少。这表示,通 过设置磁场调整件15,静磁场的均匀性得到了改善。尤其是,能够确认到 在Z轴向上形成了均匀的静磁场。

因此,根据设置了磁场调整件15的磁共振成像装置1,能够通过在高 均匀性的静磁场下的MR成像而收集到良好画质的MR图像。

(第2实施方式)

图6是本发明的第2实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图,图7是图6所示的磁场调整件的左侧视图。

图6及图7所示的第2实施方式的磁共振成像装置1及磁场调整件15A 与第1实施方式的磁共振成像装置1及磁场调整件15的不同之处只在于磁 场调整件15A的构成。因此,只说明磁场调整件15A的构成,对其他构成 要素赋予相同的符号并省略说明。

第2实施方式的磁场调整件15A构成为通过设置部件17A将提高静磁 场的均匀性的期望形状的强磁体固定在期望位置上。作为强磁体,代表性 的有铁、钴及铁钴合金,但是将容易获取且廉价的铁用作强磁体较为实用。 在此,以强磁体为铁的情况为例进行说明。

图6及图7所示的磁场调整件15A可以由作为强磁体的一个例子的铁 柱20及设置部件17A构成。铁柱20通过设置部件17A而被设置在至少比 形成于静磁场用磁铁7的内侧的NMR信号的收集区域R更靠诊视床6侧。 在图6及图7所示的例子中,将与诊视床6的送出方向垂直的水平方向作 为长边方向的2根铁柱20,通过螺栓、夹具等设置部件17A固定在屏蔽室 4的诊视床6上下的壁面之间。

其结果,由屏蔽室4和铁柱20来形成对静磁场用磁铁7所生成的磁通 线进行导向的磁路。也就是说,由静磁场用磁铁7生成的诊视床6侧的磁 通线被吸向铁柱20。而且,该被吸引的磁通线经由铁柱20的内部被引导到 屏蔽室4的壁面内。此外,磁通线经由屏蔽室4的壁面内到达静磁场用磁 铁7的诊视床6相反侧。

因此,通过设置部件17A将适当形状的铁柱20配置在适当的位置,从 而能够提高NMR信号的收集区域R中的静磁场的均匀性。也就是说,通过 设置铁柱20而形成理想的磁路,能够消除铁片14等给NMR信号的收集区 域R中的静磁场造成的影响。

另外,铁柱20与静磁场用磁铁7之间的距离越小,越能够减小铁柱20 的尺寸。因此,若使铁柱20靠近静磁场用磁铁7,则能够通过减小铁柱20 的粗细来确保屏蔽室4内的作业空间。但是,如图6所示,也可以使铁柱 20从构台5离开,通过设置部件17将铁柱20固定在诊视床6的比端部稍 微靠近中央的位置,以便在构台5附近的诊视床6附近得到作业空间。

相反,只要能够提高NMR信号的收集区域R中的静磁场的均匀性,也 可以通过设置部件17A将铁柱20固定在构台5的内部。

另外,铁柱20可以被固定在屏蔽室4的天花板与地板之间。此外,不 限于铁柱20,能够通过设置部件17A将铁环等任意形状的铁部件固定在屏 蔽室4内。

图8是示出作为图6所示的磁场调整件15A将铁肋板固定到屏蔽室4 上的例子的图,图9是图8所示的磁场调整件15A的左侧视图。

如图8及图9所示,可以将设置部件17A构成为能够通过设置部件17A 将铁肋板21安装在屏蔽室4的任意部位、例如天花板与地板之间。铁肋板 21与静磁场用磁铁7之间的距离越小,越可以缩小铁肋板21的高度、厚度 及宽度等尺寸。因此,若将铁肋板21设置在靠近静磁场用磁铁7的位置, 则能够有效利用屏蔽室4内的空间。

如图8及图9所示,在屏蔽室4的壁面上设置大致垂直的铁肋板21时, 通过铁肋板21和屏蔽室4来形成对由静磁场用磁铁7生成的磁通线M进行 引导的磁路。也就是说,由静磁场用磁铁7生成的诊视床6侧的磁通线M 在比形成于静磁场用磁铁7内的NMR信号的收集区域R更靠近诊视床6的 一侧,被吸向铁肋板21。而且,该被吸引的磁通线M经由铁肋板21的内部 被引导到屏蔽室4的壁面内。此外,磁通线M经由屏蔽室4的壁面内到达 静磁场用磁铁7的诊视床6相反侧。

另外,即使在铁肋板21与屏蔽室4之间存在间隙,只要间隙足够窄, 也能够形成与使铁肋板21接触屏蔽室4时的情况相同的磁路。

因此,通过设置部件17A将适当形状的铁肋板21固定在屏蔽室4的适 当位置,从而能够提高NMR信号的收集区域R中的静磁场的均匀性。也就 是说,通过设置铁肋板21而形成理想的磁路,从而能够消除铁片14等给 NMR信号的收集区域R中的静磁场造成的影响。

也就是说,第2实施方式中的磁场调整件15A替代第1实施方式中的 磁场调整件15所具备的消除线圈16,而使用了铁等强磁体。因此,根据第 2实施方式,能够以低成本简单地将磁场调整件15A设置在屏蔽室4内。另 外,能够将磁场调整件15A牢固地固定在屏蔽室4内。磁场调整件15A尤 其在减少变化较少且始终产生的静磁场造成的影响的情况下是有效的。

(第3实施方式)

图10是本发明的第3实施方式的磁共振成像装置及磁共振成像装置用 的磁场调整件的纵剖视图。

在图10所示的第3实施方式的磁共振成像装置1中,与第1及第2实 施方式的磁共振成像装置1不同之处只有磁场调整件15、15A的构成。因 此,只说明磁场调整件15、15A的构成,对其他构成要素赋予相同符号省 略说明。

在第3实施方式的磁共振成像装置1中,作为第1磁场调整件15,图 4所示的用于提高静磁场的均匀性的消除线圈16被设置在比形成于静磁场 用磁铁7内的NMR信号的收集区域R更靠诊视床6相反侧。在图10所示的 例中,示出消除线圈16被设置部件17固定在内置有静磁场用磁铁7的构 台5内部的例子。另外,供给到消除线圈16的电流由控制装置18进行控 制。

此外,在磁共振成像装置1中,作为第2磁场调整件15B,在诊视床6 上设置任意形状的强磁体30。另外,图10示出了将板状的强磁体30作为 相对于诊视床6独立的其他部件而设置在诊视床6的固定顶板10的下方的 例子,然而也可以将强磁体30设为诊视床6的构成要素。另外,也可以不 将强磁体30直接设置在诊视床6上,但至少设置在诊视床6侧。也就是说, 将强磁体30作为诊视床6的一部分或相对于诊视床6独立的部件设置在诊 视床6或诊视床6侧。

另外,强磁体30优选为如上所述靠近静磁场用磁铁7而配置。因此, 为了满足该要求,有时优选在与沿上下方向移动的顶板一起移动的位置上 设置强磁体30。在这种情况下,重要的是,将强磁体30设置成高度与诊视 床6的顶板一起改变,在顶板的高度达到被送入到NMR信号的收集区域R 的高度的情况下,通过强磁体30提高静磁场的均匀性。

此外,重要的是,将诊视床6构成为,使顶板以比强磁体30被静磁场 用磁铁7吸引的磁力大的转矩移动。

根据如上所述的第3实施方式的磁共振成像装置1,能够得到与图4所 示的磁共振成像装置1相同的效果。也就是说,通过设置在诊视床6相反 侧的消除线圈16,能够防止从屏蔽室4泄漏磁场。其结果,能够省略设置 在屏蔽室4的壁面上的铁片14。

另一方面,由静磁场用磁铁7生成的诊视床6侧的磁通线被吸向设置 于诊视床6侧的强磁体30。而且,通过形成磁路,能够消除NMR信号给收 集区域R中的消除线圈16给静磁场带来的影响。其结果,能够提高NMR信 号的收集区域R中的磁场的均匀性。

(其他实施方式)

以上记载了特定的实施方式,所记载的实施方式只不过是一种例子, 并不是要限定发明范围。在此记载的新颖的方法及装置也能够具体化为各 种其他方式。另外,在此记载的方法及装置中,在不脱离发明宗旨的范围 内,能够进行各种省略、替换及变更。所附加的权利要求书及其等效物包 括在发明的范围及宗旨中,包括各种方式及变形例。

例如,可以像第3实施方式那样,将上述的第1实施方式及第2实施 方式相互组合。也就是说,在设置有磁共振成像装置1的静磁场用磁铁7 的屏蔽室4内,作为磁场调整件15、15A,设置消除线圈16及铁等强磁体 的双方。

也就是说,通过设置部件17、17A等,将磁场调整件15、15A、15B设 置到磁共振成像装置1的静磁场用磁铁7外部的各种位置上,提高由静磁 场用磁铁7形成的静磁场的均匀性,该磁场调整件15、15A、15B受到设置 有静磁场用磁铁7的屏蔽室4内的环境的影响。而且,由静磁场用磁铁7 形成静磁场,从被诊视床6送入到形成于静磁场用磁铁7内的NMR信号的 收集区域R的被检体O收集NMR信号,从而进行MR成像。

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