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表面处理了的碳纳米结构体的制造方法

摘要

本发明提供一种碳纳米结构体,其能够制备分散稳定性优异的碳纳米结构体分散液。本发明的表面处理了的碳纳米结构体的制造方法包含下述工序:减压处理工序,将包含碳纳米结构体和分散介质的含有碳纳米结构体的液体进行减压;表面处理工序,在减压处理工序后或减压处理工序中向含有碳纳米结构体的液体中添加氧化剂,使碳纳米结构体的表面氧原子浓度为7.0at%以上。在此,碳纳米结构体优选包含碳纳米管。

著录项

  • 公开/公告号CN110366536A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本瑞翁株式会社;

    申请/专利号CN201880014646.1

  • 发明设计人 川上修;

    申请日2018-02-19

  • 分类号

  • 代理机构北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨卫萍

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2024-02-19 15:16:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B32/174 申请日:20180219

    实质审查的生效

  • 2019-10-22

    公开

    公开

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