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用于检查设备的照射源、检查设备及检查方法

摘要

披露了一种照射源设备,包括高阶谐波产生介质(910)、泵浦辐射源以及空间滤光器(940)。该泵浦辐射源发射泵浦辐射束(950),该泵浦辐射束具有在所述束的中心区中不包括泵浦辐射的轮廓且激发该高阶谐波产生介质以便产生高阶谐波辐射(920)。该泵浦辐射及所产生的高阶谐波辐射在该泵浦辐射束的焦平面之外是空间上分离的。该空间滤光器位于该泵浦辐射束的焦平面之外,且阻挡该泵浦辐射。还披露一种产生高阶谐波测量辐射的方法,该高阶谐波测量辐射被优化以用于将泵浦辐射从其中滤掉。

著录项

  • 公开/公告号CN110268329A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780070048.1

  • 发明设计人 S·B·罗博尔;S·G·J·马西森;

    申请日2017-10-12

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02F1/35(20060101);G01N21/956(20060101);H01S3/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王静

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2024-02-19 15:16:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20171012

    实质审查的生效

  • 2019-09-20

    公开

    公开

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