首页> 中国专利> 用于检查设备的照射源、检查设备和检查方法

用于检查设备的照射源、检查设备和检查方法

摘要

公开了一种用于生成检查设备的测量辐射的照射源。源生成至少第一测量辐射和第二测量辐射,从而第一测量辐射和第二测量辐射干涉,以形成采用拍频分量调制的经组合的测量辐射。照射源可以是HHG源。也公开了一种包括该源的检查设备以及相关联的检查方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20170613

    实质审查的生效

  • 2019-03-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号