Copper; Molybdenum; Tantalum; Yttrium Ions; Oxidation; Backscattering; Helium; Ion Implantation; Surface Coating; EDB/656003; EDB/360101;
机译:氦离子辐射对氧化钇涂层氘渗透的影响
机译:通过铜掺杂氮化钽的氧化制备的铜掺杂氧化钽的电阻转换
机译:60 keV氦离子注入下5%钽掺杂的钨中的大塑性变形起泡和氦气保留
机译:O离子剂量对高能Cu和O离子注入石英玻璃中氧化铜纳米颗粒形成的影响
机译:铜/ X多层膜(X =铬,钼,钨,钽,rh)中的铜结构和L边缘X射线吸收。
机译:用于磁光子器件的具有低红外吸收率的热稳定非晶氧化钽钇
机译:钇注入铜,钼和钽利用高能量共振氦反向散射的氧化研究
机译:使用高能共振氦反向散射对钇注入铜,钼和钽进行氧化研究