Advanced Light Source; EDB/430303; Permanent magnets;
机译:校准模型可阻止用于磁化率测量的设备的分散材料的磁化率:II。校准块参数的实验估计
机译:校准模型可以阻止用于磁化率测量的设备的分散材料的磁化率:III。校准块的计量评估
机译:校准模型可以阻止用于磁化率测量的设备的分散材料的磁化率:I.用分散剂的归一化磁化率计算校准标本
机译:ALS插入设备块的测量和检查
机译:微米级的电气测量:空气击穿和硅库仑阻挡装置。
机译:插入创伤的后果–使用脑内设备对早期测量产生影响
机译:插入创伤的结果 - 使用脑内装置时对早期测量的影响