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Near band‐gap photoluminescence from sulfur‐doped silicon samples

机译:来自硫连字符;掺杂硅样品的近带连字符;间隙光致发光

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摘要

Photoluminescence measurements in sulfur‐doped silicon samples reveal new luminescence lines at 1.1439 eV (S1), 1.1150 eV (S2), and 1.0858 eV (S1TO). S1TOis the transverse optical (TO) phonon replica of the S1 line. The sharp luminescence lines result from the recombination of excitons bound to two different centers. The S1 line was found to have a thermal ionization energy of 12.0 meV, which corresponds directly to the spectroscopically determined binding energy of the bound exciton. A correlation of the binding centers with the sulfur donor levels is suggested.
机译:硫掺杂硅样品的光致发光测量揭示了1.1439 eV(S1)、1.1150 eV(S2)和1.0858 eV(S1TO)的新发光谱线。[S1TO是S1线的横向光学(TO)声子复制品。]尖锐的发光线是由与两个不同中心的激子复合产生的。发现 S1 谱线的热电离能为 12.0 meV,这与光谱确定的束缚激子的结合能直接对应。建议结合中心与硫供体水平相关。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1984年第12期|3518-3520|共页
  • 作者

    J. Weber; C. Holm;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
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