電子ビームを使った膜質改善技術量産工程への導入に向けて開発進む

摘要

半導体分野における電子ビーム（EB）の新しい応用の中で，露光技術と並んで重要とされているのがEBを使った膜質改善技術。 いわゆる「EBキュア」である。 一昨年に続き，今回のEBソリューション2005において，ウシオ電機と東京エレクトロンが量産工程への導入を前提にしたEB照射装置の最新開発状況をテーマにした講演を行った。 講演の中でポーラスLow-k材（多孔質低誘電率材）にEBキュアを施す実験の結果にも言及し，多くの来場者の関心を集めた。