次世代露光の論点，技術から経済へ

摘要

90nm プロセス技術ノードでArFエキシマ#12539;レーザー露光が実用化し，次　 世代の65nm や次々世代の45nm に向けて各種露光技術の開発競争に拍車がかかってきた。 この状況が露光装置各社の開発負担を急増させている。 開発の進め方，ユーザー要求と開発負担のバランスのさせ方，各技術への取り組みをオランダASM Lithography 社に聞いた。