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Intervalley scattering in Ga1−xAlxAs alloys

机译:Ga1−xAlxAs合金中的间隔散射

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摘要

Hall mobility at 300 K in high‐purity epitaxial layers ofn‐type Ga1−xAlxAs with electron concentrations in the range (5–10)×1015cm−3has been measured as a function of alloy compositions in the range 0⩽x⩽0.78 and as a function of hydrostatic pressure for various values of alloy compositions. The data show that nonequivalent intervalley scattering between the direct and various indirect minima play an important role in limiting the electron mobility in this alloy.
机译:在电子浓度在 (5–10)×1015cm−3 范围内的 Ga1−xAlxAs 型高纯度外延层中,在 300 K 下霍尔迁移率已测量为合金成分在 0⩽x⩽0.78 范围内的函数,以及各种合金成分值的静水压力的函数。数据表明,直接和各种间接最小值之间的非等效间隔散射在限制该合金的电子迁移率方面起着重要作用。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1981年第9期|5643-5646|共页
  • 作者

    Ashok K. Saxena;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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