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Semiconducting iron disilicide films on Si(111): A high resolution electron energy loss spectroscopy study

机译:Si(111)上的半导体二硅化铁薄膜:高分辨率电子能量损失谱研究

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摘要

Thin films of bgr;‐FeSi2on Si(111) have been studied by low energy electron diffraction (LEED) and high resolution electron energy loss spectroscopy (HREELS). The observed LEED pattern is consistent with two possible epitaxial orientations. HREELS measurements demonstrate the semiconducting character of the films. The energy gap is determined toEgbartil;0.92 eV–0.33 meV/KT(K). Additionally a number of optical phonons is found in the range between 200 and 500 cm−1. Theoretical spectra are calculated with optical phonon parameters obtained from infrared data and are compared with the measured spectra.
机译:通过低能电子衍射(LEED)和高分辨率电子能量损失谱(HREELS)研究了&bgr;‐FeSi2on Si(111)的薄膜.观察到的LEED模式与两种可能的外延取向一致。HREELS测量证明了薄膜的半导体特性。能隙确定为Eg&bartil;0.92 eV–0.33 meV/KT(K)。此外,在200到500 cm−1的范围内发现了许多光学声子。使用从红外数据中获得的光学声子参数计算理论光谱,并与测量的光谱进行比较。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1992年第12期|5905-5911|共页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
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