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Zn‐doped vapor‐grown InP

机译:Zn连字符;掺杂蒸气连字符;生长InP

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摘要

Zinc‐dopedp‐type InP layers has been grown by the In/PCl3/H2technique. It has been shown that the zinc atoms, incorporated during the growth, become electrically active after annealing. By photoluminescence study at 4.2 °K, it has been found that the main transition on the Zn level, in low‐doped material, was situated at 1.377 eV; this transition shifts to 1.382 eV in higher‐doped material.
机译:锌&连字符;掺杂&连字符;型InP层已通过In/PCl3/H2技术生长。研究表明,在生长过程中掺入的锌原子在退火后变得具有电活性。通过4.2 °K的光致发光研究,发现低掺杂材料中Zn能级的主要跃迁位于1.377 eV;在高连字符掺杂材料中,这种转变转变为 1.382 eV。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1980年第1期|815-817|共页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
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