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The barrier height of Schottky diodes with a chemical‐vapor‐deposited diamond base

机译:具有化学连字符;蒸汽连字符连字符沉积金刚石基底的肖特基二极管的势垒高度

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摘要

A barrier height of 1.13±0.03 eV was measured for Al and Au rectifying contacts top‐type chemical‐vapor‐deposited diamond thin films using the internal photoemission technique. The results are compared with experimental data reported for Schottky barriers on single‐crystal diamond.
机译:使用内部光发射技术测量了Al和Au整流接触顶部&连字符型化学&连字符;蒸气&连字符沉积金刚石薄膜的势垒高度为1.13±0.03 eV。将结果与单晶体金刚石肖特基势垒的实验数据进行了比较。

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