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Amorphous bismuth‐germanium thin films: Infrared detector characterization

机译:非晶铋连字符;锗薄膜:红外探测器表征

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摘要

Thin films of bismuth‐germanium have been fabricated in vacuum by the method of codeposit vapor quenching. In this paper, the third of a three part series, the evaluation of a select set of amorphous bismuth‐germanium thin films as infrared detectors is reported. The evaluation indicates thata‐BixGe1−xthin films possess moderate potential as a new amorphous infrared detector material. The BixGe1−xsystem is found to be photoconductive in the range 0≤x≤0.037. Signal, noise, and signal‐to‐noise—ratio data at 300 and 162 °K are reported for various alloy concentrations. A clear maximum in the signal‐to‐noise plots is observed indicating an optimum bias regime. Photoresponse versus optical chopping frequency data indicate response times on the order of 1–2 msec at room temperature and at 162 °K. The specific spectral detectivity Dlgr;*for ana‐Bi1.74Ge98.26film atT= 162 °K shows a maximum in the vicinity of 1 mgr; with a maximum value in the range 107–108cm Hz1/2W−1.
机译:铋锗的薄膜是通过共沉积气相淬灭的方法在真空中制备的。本文是三部分系列中的第三部分,报告了一组选定的非晶铋锗薄膜作为红外探测器的评估。结果表明,BixGe1−x薄膜作为新型非晶态红外探测器材料具有中等潜力。发现BixGe1−x系统的光电导范围为0≤x≤0.037。报告了各种合金浓度在 300 和 162 °K 下的信号、噪声和信号与噪声比数据。在信号&连字符到&连字符&连字符;噪声图中观察到明显的最大值,表明存在最佳偏置状态。光响应与光学斩波频率数据表明,在室温和 162 °K 下,响应时间约为 1–2 毫秒。 比谱探测率D&lgr;*对于ana‐Bi1.74Ge98.26film atT= 162 °K显示最大值在1&mgr;附近,最大值在107–108cm Hz1/2W−1范围内。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1974年第8期|3463-3466|共页
  • 作者

    R. W. Vass; R. M. Anderson;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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