露光は泥臭い技術の積み上げ与えられたミッションを着々と進める

摘要

若宮亙は，今最もエッジなポジションにある。 それは，若宮が00年に半導体先端テクノロジーズ（Selete）に三菱電機（現ルネサステクノロジ）から出向し手掛けてきたF_2露光技術が，実用化直前に入ったからである。 しかし次世代リソグラフィ技術は，F_2の他，EUVさらにはArF液浸などが登場し，混迷を極めている。