電気化学堆積硫化鉄薄膜の硫黄アニール処理とZnOとのヘテロ接合への応用

摘要

電気化学堆積法は水溶液中のイオンを還元させることで薄膜を堆積させる方法である。FeS_2（パイライト）は豊富かつ無毒な元素で構成され、高い吸収係数を持った半導体である。本研究では、電気化学堆積法により硫化鉄薄膜を作製し、硫黄粉末を用いてアニール処理を施した。その結果、400℃でアニール時、酸素比の減少とパイライトへの結晶化を確認した。また、硫化鉄薄膜とZnO薄膜とのヘテロ接合を作製した結果、整流性は得られたが、アニールにより漏れ電流の増加と順方向電流の減少が確認された。