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Thin Al, Au, Cu, Ni, Fe, and Ta films as oxidation barriers for Co in air

机译:薄的 Al、Au、Cu、Ni、Fe 和 Ta 薄膜作为空气中 Co 的氧化屏障

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摘要

We have investigated the effectiveness of Al, Au, Cu, Ni, Fe, and Ta films with thicknesses up to 4 nm for protecting a Co surface from oxidation in air at room temperature. The distinct change in the Co 2p_(3/2) core-level line shape observed by x-ray photoelectron spectroscopy upon the oxidation of Co makes it a simple matter to identify the fractions of the Co that are in the metallic state and in the oxidized state. We find that the best choices for protecting Co from oxidation are Al and Ta. We found that Au, which is one of the most popular choices, is not particularly effective for protecting Co.
机译:我们研究了厚度达 4 nm 的 Al、Au、Cu、Ni、Fe 和 Ta 薄膜在室温下保护 Co 表面在空气中免受氧化的有效性。在Co氧化过程中,X射线光电子能谱观察到的Co 2p_(3/2)核能级线形的明显变化使得识别处于金属状态和氧化状态的Co部分变得简单。我们发现保护 Co 免受氧化的最佳选择是 Al 和 Ta。我们发现,Au 是最受欢迎的选择之一,对保护 Co 并不是特别有效。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2003年第10期|8731-8733|共3页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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