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Dependence of photoconductivity on the dark Fermi level position in amorphous silicon alloys

机译:光电导率对非晶硅合金中暗费米能级位置的依赖性

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摘要

We present results of a new model to describe the dependence of the room‐temperature steady‐state photoconductivity in amorphous silicon alloys upon the position of the dark Fermi level. This dependence is a consequence of both a change in the recombination path and dopant‐created gap states. We also demonstrate the relationship between the power dependence of photoconductivity and dark Fermi level position and show that as a result of space charge neutrality, this dependence can be related to a characteristic energy slope of the density of states only in the absence of injected charge or dopants. Moreover, in agreement with recent experimental data, we show that our model predicts a power dependence of less than 0.5 for high‐intensity illumination onn‐type amorphous silicon.
机译:我们提出了一个新模型的结果,以描述非晶硅合金中室温稳定态光电导率对暗费米能级位置的依赖性。这种依赖性是重组路径变化和掺杂剂&连字符产生的间隙状态的结果。我们还证明了光电导率的功率依赖性与暗费米能级位置之间的关系,并表明由于空间电荷中性,这种依赖性仅在没有注入电荷或掺杂剂的情况下才可能与状态密度的特征能量斜率有关。此外,与最近的实验数据一致,我们表明,我们的模型预测高强度照明和连字符型非晶硅的功率依赖性小于 0.5。

著录项

  • 来源
    《applied physics letters》 |1984年第4期|467-469|共页
  • 作者

    M. Hack; S. Guha; M. Shur;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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