首页> 外文期刊>journal of applied physics >Electrical resistance and the time‐dependent oxidation of semicontinuous bismuth films
【24h】

Electrical resistance and the time‐dependent oxidation of semicontinuous bismuth films

机译:电阻和半连续铋膜的时间依赖性氧化

获取原文
获取外文期刊封面目录资料

摘要

We report on the electrical resistance and time‐dependent oxidation of thin (≲90 A˚) semicontinuous bismuth films. An increase in the room temperature sheet resistance with exposure to air is correlated with the growth of insulating Bi2O3at the surfaces and internal boundaries between bismuth particles. For short oxidation timest, the resistance increases asRlaplac;∝t1/2, consistent with a parabolic oxide growth law. At longer times the resistance follows the classical percolation lawRlaplac;∝‖tc−t‖−mgr;, wheretcis a critical exposure time and mgr;bartil;1.3 is a critical exponent for two‐dimensional systems.
机译:我们报道了薄(≲90 A˚)半连续铋膜的电阻和时间依赖性氧化。暴露于空气中时室温薄片电阻的增加与铋颗粒表面和内部边界处绝缘Bi2O3的生长有关。对于较短的氧化时间,电阻随着R&laplac;∝t1/2的增加而增加,这与抛物线氧化物生长规律一致。在较长的时间内,电阻遵循经典的渗流定律R&laplac;∝‖tc−t‖−&mgr;,其中tc是临界曝光时间,&mgr;&bartil;1.3是二维系统的临界指数。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1989年第5期|2045-2048|共页
  • 作者

    J. L. Cohn; C. Uher;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号