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Effect of oxygen on the diffusion of Ni in Pt in Pt‐Ni‐Pt films

机译:氧对Pt‐Ni‐Pt薄膜中Ni在Pt中的扩散的影响

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摘要

We have studied the effect of oxygen on the diffusion of Ni into Pt in the Pt‐Ni‐Pt films. Below 400 °C, the diffusion rates of Ni into both Pt layers are greatly reduced by oxygen. Above 500 °C, however, Ni rapidly mixes with Pt layers, which leads to the formation of Ni oxide on the Pt surface in the presence of oxygen.
机译:我们研究了氧对 Pt‐Ni‐Pt 薄膜中 Ni 扩散到 Pt 中的影响。在400 °C以下,Ni在氧气的作用下大大降低了Ni在两个Pt层中的扩散速率。然而,在500°C以上,Ni迅速与Pt层混合,导致在氧气存在下在Pt表面形成氧化镍。

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics》 |1981年第1期|512-514|共页
  • 作者

    Chinhyphen; An Chang; W. K. Chu;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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