招待講演SISPAD 2018レビュー

摘要

2018 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)が2018 年9月24日から26日にかけて米国テキサス州オースチンで開催された.本稿では当会議の統計データの動向について分析した後，当会議で報告された論文の中から注目を集めたものについてその内容をレビューする.