微細加工TbFe合金膜へのパルス電流加熱による熱磁気記録

摘要

マグネトロンスパッタ法により作製したTbFe (80nm）膜を集束イオンビーム (FIB) およびフォトリソグラフィーにより0.5μmから2μmの寸法に加工し，パルス電流加熱による熱磁気記録を行った。 0.5μmから2μmの試料において500 Oeの磁場中で電流パルスを印加することで磁化反転することを確認した。 磁化反転した電流密度は素子サイズが小さくなるに従い減少し，2μm，1.0μm，0.5μmの素子でそれぞれ40×10{sup}6，2.5×lO{sup}6，1.3×lO{sup}6 A/cm{sup}2であった。 これは素子面積あたりのジュール熱に換算してそれぞれ33,13,3pJ/μm{sup}2に相当する。