光反応性低分子·高分子複合体による表面レリーフ及び位相格子の同時記録

摘要

光化学反応性低分子·高分子複合体を用い、ホログラム記録の形成過程の調査を行った。複合体に波長325 nmのHe-Cdレーザーの干渉光を照射してホログラム回折格子を作成し、表面レリーフ構造及び回折効率を測定した。 その結果、作成された回折格子には、表面レリーフ格子と位相格子が共存していることがわかった。 また熱処理の影響を観察した結果、表面レリーフ構造は100℃前後で消失する一方で、位相格子は200℃付近まで深くなることがわかった。