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【24h】

MBE法による炭酸系化合物(Ba_xSr_(1-x))_2Cu_(1+y)O_(2+δ)(CO_3)_(1-y)薄膜の作製

机译:MBE法制备碳酸化合物(Ba_xSr_(1-x))_2Cu_(1+y)O_(2+δ)(CO_3)_(1-y)薄膜

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摘要

本研究では,MBE法を用いて炭酸系超伝導体(Ba_xSr_(1-x))_2Cu_(1+y)O_(2+δ)(CO_3)_(1-y)の合成を試みた.真空チャンバ内にCO_2ガス及び酸化源としてNO_2ガスをそれぞれ導入することによりSrTiO_3(001)基板上に(Ba_xSr_(1-x))_2Cu_(1+y)O_(2+δ)(CO_3)_(1-y)(x ≥ 0.3)を成長させることができた.SrTiO_3(001)基板上に成長した薄膜はc軸が基板表面に垂直で,面内の方位関係は基板[110]方向に沿って薄膜[100]がエピタキシャル成長していた.NdGaO_3及び(LaAlO_3)_(0.3)(SrAl_(0.5)Ta_(0.5)O_3)_(0.7)基板上にも同様な条件で成膜したが,エピタキシヤル薄膜は得られなかった.いずれの薄膜も電気抵抗特性は半導体的であり,超伝導特性は示さなかった.
机译:在这项研究中,我们尝试使用MBE方法CO_δ O__2Cu_Ba_xSr_SrTiO_3 NO_2 CO_2合成碳酸超导体(Ba_xSr_(1-x))_2Cu_(1+y)O_(2+δ)(CO_3)_(1-y)。 3) _(1-y)(x ≥ 0.3) 生长。 SrTiO_3 (001)生长在基板上的薄膜具有垂直于基板表面的c轴,并且薄膜[100]沿基板[110]方向在平面上外延生长。 NdGaO_3和(LaAlO_3)_(0.3)(SrAl_(0.5)Ta_(0.5)O_3)_(0.7)薄膜在相同条件下沉积在衬底上,但未获得外延薄膜。

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