ASIT LICI UYGULAMASIYLA YUKSEK KALITEDE KUVARS URETIMINDE COZUCU (H2SO_4 ve C6H8O7) ve INDIRGEYICI (H_2O2) ETKISI

摘要

Kuvarsin kimyasal yontemlerle saflastirilmasi, optik cam ve elektronik sanayinde ve ileri teknoloji urunlerinde kullanimi acisindan son derece onemlidir. Organik ve inorganik asitlerin kullanildigi kimyasal yontemlerle, kuvars cevherlerindeki en onemli safsizlik olan demiri buyuk olcude uzaklastirmak mumkundur. Bu calismada kuvars cevherinde safsizlik olarak bulunan demirin uzaklastirilmasi amaciyla hidrojen peroksit varliginda sulfurik asit ve sitrik asit lici testleri gerceklestirilmistir. Kimyasal lic testlerinde farkli asitlerin performansi ve kati/sivi orani, sicaklik, lic suresi ve reaktif derisimi gibi parametrelerin Fe_2O_3 uzaklastirma verimine etkisi tam faktoriyel deney tasarimi yontemine gore belirlenmis, elde edilen sonuclar ANOVA (varyans analizi) yontemi ile degerlendirilmis ve ampirik modeller olusturulmustur. Belirlenen optimum sartlarda (kati/sivi orani: 5, sulfurik asit derisimi: 3M, hidrojen peroksit derisimi: 1M, sicaklik: 90°C, lic suresi: 120 dk) hidrojen peroksit varliginda sulfurik asit licinde 98,9 Fe_2O_3 uzaklastirma verimi ve 1 ppm Fe_2O_3 icerikli yuksek kalitede kuvars urunu elde edilmistir.