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机译:40nm Flash混載プロセスを使用した170℃動作可能な超低電力SRAM
横山佳巧; 石井雄一郎; 小嶋英充宮西篤史辻橋良樹朝山忍柴和利田中浩二福田達哉新居浩二柳沢一正;
ルネサスエレクトロニクス;
SRAM; スタンバイ; リーク; MCU; 40nm; 170℃;
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