ペチーニ法で作製したBi_(1+x))FeO_3（X＝0.0,0.2）ターゲットおよびパルスレーザー堆積法で作製したBiFeO_3薄膜の化学当量性の評価

摘要

パルスレーザー堆積法を用いて作製したBiFeO_3（BFO）薄膜およびレーザーアブレーション後のターゲット表面の組成比について調べた。BFO薄膜表面のBi/Fe比は0.72でありBiが欠損していることがわかった。また、レーザーアブレーション回数の増加に対しBFOターゲットのBi／Feの組成比は増減を繰り返すが、全体を通してBi/Fe＝0.55～0.81とBiが不足しており、Bi/Fe＝1.2～1.8としたターゲットが必要であることがわかった。そこで、Biを0.2mol過剰にしたBi_(1.2)FeO_xターゲットを作製した。Bi_(1.2)FeO_xターゲットの密度は85.1となった。