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MOD法によるBST薄膜を用いた20GHz帯チューナブル移相器とその360度デジタルPHEMTIC移相器への応用

机译:MOD法によるBST薄膜を用いた20GHz帯チューナブル移相器とその360度デジタルPHEMTIC移相器への応用

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摘要

BaxSr1-XTiO3(BST)強誘電体薄膜を用いたチューナブル移相器を作製し,360度デジタルPHEMT移相器への応用を検討した.低損失BST薄膜をPulsed Laser Depositjon(PLD)法による初期核層を形成後Metal-Organic-Decomposition(MOD)法でMgO基板上に製膜した.インターデジタルキャパシタ(フィンガー間ギャップ10岬1)での誘電損失は0.002-0.004(表面印加電界-/+40~+/-40kV/cm,測定周波数IMHz),チューナビリティは約12%であった.pt/BST/Pt積層キャパシタでは約40%に増加した(印加電界-/+170、+ノー170kV/cm,測定周波数IMHz).Au/Cr配線で形成したコプレーナ線路(幅60pm,ギャップ10匹m,長さ2.5mrn)ではDCバイアス電圧OVから60Vを印加時,測定周波数20GHzで位相シフト変化量18度,挿入損失-2dBが得られた.このコプレーナ型BSTチューナブルキャパシタを用いた3段LC梯子型チューナブル移相器を検討し,20GHzで印加バイアス電圧60Vで40度の位相変化を得るように設計した.その試作?評価の結果,設計仕様と同等の位相変化量(同印加バイアス時)、損失等を確認できた.その後,隣接位相間隔11.25度の360度デジタルPHEMTTC移相器における隣接位相間位相補正用に本BSTチューナブル移相器の適用を検討し,良好な補正ができることが確認された.今回のBST誘電体薄膜形成とデバイスプロセスはマイクロ波?ミリ波用チューナブルデバイス実現に非常に有用であると考えられる.

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