ドロップ光化学堆積法によるn型AlO_x薄膜の作製

摘要

AlO_xは大きなバンドギャップから可視光に対して透明であり、化学的、熱的に安定な物質である。本研究では、基板に溶液を滴下して光を照射して堆積を行うドロップ光化学堆積（d-PCD）法によりAlO_x，薄膜の堆積を行った。組成比より、作製された薄膜は電気伝導に寄与するとされる酸素欠陥を含んでいる可能性が示唆された。そこでd-PCD法によるAlO_x薄膜の電気的特性の評価を行った。その結果、微小ではあるがn型の導電性を持つ事がわかった。