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PLASMA ANODIZATION OF GERMANIUM

机译:PLASMA ANODIZATION OF GERMANIUM

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摘要

A model is presented for the measurement of the voltage drop across a plasma anodized germanium film. This model proposes that the potential at the plasmamdash;oxide interface is controlled by the plasma. From this model the anodization constant of germanium has been determed to be 31 Aring;sol;V.

著录项

  • 来源
    《applied physics letters》 |1969年第4期|127-129|共页
  • 作者

    John F. OHanlon;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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