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Electrical properties of donor and acceptor implanted Hg1minus;xCdxTe following cw CO2laser annealing

机译:Electrical properties of donor and acceptor implanted Hg1minus;xCdxTe following cw CO2laser annealing

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摘要

The electrical properties of P and B implanted and cw CO2laser annealednhyphen; andphyphen;type Hg1minus;xCdxTe (x=0.21, 0.29) are studied. Hall, conductivity, and capacitancehyphen;voltage (Chyphen;V) measurements carried out on the virgin, implanted, and annealed samples all show that both donor and acceptor implants can be electrically activated when annealing with a cw CO2laser (0.3 s, 250 W/cm2) is employed.

著录项

  • 来源
    《applied physics letters》 |1982年第11期|1057-1059|共页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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