ナノクリーンテクノロジーと次世代半導体工場

摘要

ナノクリーンの清浄度を創る技術 (ナノクリーンテクノロジー）は，空気中に含まれるイオン類，金属元素，ドーバント類の濃度を1 ng/m{sup}3以下のレベルに，有機物はウェハに付着しやすいプラスチック中の可塑剤であるDOP，DBP，酸化剤BHTなどを含まず，有機物総量が1μgc/m{sup}3以下の濃度に制御する技術である。 本稿では，ナノクリーンテクノロジーと次世代半導体工場について述べる。