酸素イオンのスパッタ照射による酸化物薄膜の作製装置

摘要

酸素イオンのスパッタ照射によって、酸化物薄膜を作製する装置を開発した。 本装置は金属の極薄膜を堆積する金属成膜エリアと、その金属膜を酸化させる酸化エリアに分けることにより酸化物薄膜を高速堆積する装置である。 本装置はカルーセル式の大型装置で、この装置の成膜有効範囲において酸化物薄膜の膜厚分布と屈折率分布の最適化を行い、SiO{sub}2でそれぞれ±1.05％、±0.29％で、均一な酸化物薄膜を得ることができた。