スパッタ法によるAZO薄膜の作製

摘要

ZnOにAlを3wt.％ドープしたAZOターゲットを使用して，マグネトロンスパッタ(MS)法及びスパッタビーム堆積(SBD)法によりAZO薄膜を作製し，薄膜の構造や透過率などの比較·検討を行った。 その結果，SBD法で作製した薄膜は，ZnO(002)面の回折ピークが観測され，その回折ピーク強度はMS法で作製した薄膜に比べ大きな値を示し，結晶性の良い薄膜を作製できることが分かった。 また，MS法で作製した薄膜に比べ，SBD法で作製した薄膜は，表面凹凸が小さく，高Arガス圧においてもRaの値は1 nm以下と表面平坦性の優れた，可視光領域の透過率が80％以上であった。 これらのことから，結晶性及び膜表面平坦性を向上させる方法として，SBD法が有効であることが明らかとなった。