化学溶液析出法によるITO/ガラス基板上へのCu_2O薄膜成長

摘要

酸化銅（I）（Cu_2O）薄膜が，硝酸銅（II）三水和物とヘキサメチレンテトラミン（HMT）の混合水溶液を用いた鉄（Fe）支援化学溶液析出法（CBD法）でIn_2O_3:Sn(ITO)基板上に作製された．CBD溶液中のCuNitとHMTの濃度比（CuNit/HMT）が1.0:1.0一定のもとにおいて，0.05および0.062Mの溶液から成長した薄膜のX線回折（XRD）パターンでは異相CuによるXRDピークが観察されるのに対して，0.075Mの溶液から成長した薄膜のXRDパターンで観察されるピークは，ITOによるXRDピークを除いて，すべてCu_2Oで指数付けされた．CBD溶液中のCuNitの濃度を0.075M—定としたとき，CuNit/HMTの増加に対してピラミッド状の平均結晶粒サイズは急激に増加したが，平均膜厚の変化はわずかであった．膜厚方向の抵抗率は～240Ωcmであった．