大阪工場で最先端プロセス向け 半導体フ才卜レジス卜の生産能力を増強

摘要

当社は、液浸ArF(フッ化アルゴン）、EUV(極端紫外線）などの最先端プロセス向け半導体フォトレジストについて、大阪工場の製造ラインを増設し、生産能力を引き上げることにしました。新製造ラインの稼働開始は2022年度上期を予定しています。フォトレジストは、半導体製造工程におけるパターン形成に使用される感光性樹脂です。当社は、各種ファインケミカル事業で培った有機合成技術をベースに高い製品設計·評価技術を確立し、フォトレジスト事業を拡大してきました。