4 半導体製造装置

摘要

日々進化するAI, IoT技術や運転支援技術，デジタルトランスフォーメーション（DX）の必要性が高まり，半導体デバイスはすべての産業の根幹になってきている。また，世界的なカーボンニュートラルの推進は，電気自動車や新エネルギーへのシフトを加速させ，パワー半導体にも技術革新が求められている。イオン注入装置は，半導体デバイスの製造工程において各部位の電気特性を決定する極めて重要なプロセスを担う装置である。デバイス構造の微細化や3次元化に伴い，より高精度の注入量および注入角度の制御が求められるようになってきている。同時に産業機械としてのイオン注入装置に求められる生産性への要求もさらに高まっている。