ALDプ口セスにおける3つの課題とその解決方法ALD/ALE半導体加工処理における課題を解決するには

摘要

高い精度が求められる半導体ファブの世界では，重要な流体システム部品の品質が鍵を握っていると言っても過言ではありません。例えば，原子層蒸着(ALD)や原子層エッチング（ALE)といったプロセスでは，使用するシステム部品に極めて高いクレンリネス（清浄度）が求められるものの，プロセス·ノードの微細化が進むにつれて，その維持が困難になりつつあります。また，製造プロセスの流体システムで用いられているガスの多くは危険有害性があるため，漏れのないシール性能も重要です。このような状況から，半導体業界で使用されている流体システム部品（バルブ，継手など）の市場のコモディティ化が進んでいるように思えるかもしれません。すべての部品が上記の特性を備えていなければならないことから，どれを選んでも最終的なパフォーマンス·レベルには大した差がないと考える 方も少なからずいるのではないでしようか。