Corrigendum to 'Random Slope method for generation of cancelable biometric features' Pattern Recognition Letters 126 (2019): 31-40

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• 来源
  《Pattern recognition letters》 |2021年第11期|85-87|共3页
• 作者

  Kaur Harkeerat; Khanna Pritee;

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• 作者单位

  Indian Inst Technol Jammu, Jammu 181221, India;

  PDPM Indian Inst Informat Technol Design & Mfg Ja, Jabalpur 482005, India;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 英语
• 中图分类
• 关键词