机译:ВЛИЯНИЕ ИЗОВАЛЕНТНОГО ЗАМЕЩЕНИЯ НА ЭЛЕКТРОННУЮ СТРУКТУРУ ТВЁРДЫХ РАСТВОРОВ ZR_xTI_(1-x)SE_2
Институт физики металлов УрО РАН им. М.Н. Михеева г. Екатеринбург, Российская Федерация;
слоистые дихалъкогениды переходных металлов; фотоэлектронная спектроскопия; электросопротивление; волна зарядовой плотности;