04 半導体製造装置

摘要

第4次産業革命の基盤を担う半導体デバイスは，その需要が爆発的に増えているばかりではなく，性能の進化もとどまるところを知らない。日々進化するAI，IoT技術，自動運転の実用化が進む自動車など，我々の身の回りの変化の多くは，半導体デバイスの高性能化によって実現されている。イオン注入装置は，半導体デバイスの微細構造を形成する工程において，各部位の電気特性を決定する極めて重要なプロセスを担う装置である。デバイス構造の微細化，3次元化に伴い，より高精度の注入量および注入角度の制御が求められるようになってきている。これと同時に，半導体デバイスを手ごろな価格で最終ユーザに供給すべく，産業機械としてのイオン注入装置に求められる生産性への要求も年々高まつている。