Die hochempfindlichen Messungen finden nicht etwa unter idealen Laborbedingungen statt, sondern sind im industriellen Umfeld st?renden Umgebungseinflüssen ausgesetzt, welche die Ergebnisse schnell verf?lschen. Für Anwendungen wie diese entwickelt die SIOS Me?technik GmbH daher hochpr?zise Differenzinterferometer, die über ultrastabile thermische und physikalische Eigenschaften verfügen: Schwankende Parameter wie Temperatur, Luftdruck und -feuchte beeintr?chtigen die sehr h?he Messgenauigkeit auch über l?ngere Zeitr?ume nicht. Das neue Weg-Winkel-Differenzinterferometer verbindet dabei die Vorteile der Differenz- mit denjenigen der bew?hrten Dreistrahl-Interferometer und erm?glicht es, erstmals mehrere Freiheitsgrade sowohl langzeitstabil als auch synchron zu erfassen. ?An der Hightech-Displaytechnologie, bei der ein Screen über mehrere Millionen Pixel verfügt, werden die aktuellen Herausforderungen der industriellen Messtechnik und der Halbleiterindustrie beispielhaft deutlich", wei? Gesch?ftsführer Dr. Denis Dontsov. ?Die Anforderung an die Positioniergenauigkeit beim sogenannten Stitching, also dem Anreihen der einzelnen Strukturen im Herstellungsprozess, liegt bei etwa 45 nm pro Meter. Diese Gr??enordnung ist vergleichbar mit der perfekten Aufreihung von Kirschkernen auf der Gesamtfl?che Thüringens." Die Halbleiterfertigung muss sich derselben Problematik stellen: Je kompakter und leistungsf?higer Chips werden, desto h?her steigen die Anforderungen an die Pr?zision der Fotolithografie als zentralen Fertigungsschritt. Aber auch Brechzahlmessungen in der Optikindustrie und Ausdehnungsmessungen von Werkstoffen erfordern immer akkuratere Ergebnisse und erlauben nur noch Toleranzen im Nano- oder sogar Pikometerbereich.
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