フォトブリーチング用ポリマ材料及びそれを用いた導波路構造とその製造方法の検討

摘要

フォトブリーチング用ポリマ材料として分岐型ポリシランにシリコーンを最適量だけ添加したポリマ材料を開発した。 そのポリマ材料を用い、紫外線照射で導波路構造を形成可能なことを提案した。 またそれぞれの導波路層である、バッファ層、コア層及びその側面クラッド層、上部クラッド層の屈折率特性を示すことができた。またポリシランの分岐度及びシリコーン添加量の最適化を図ることにより、250℃軽度まで屈折率が安定であることを見出した。 また波長1550nmにおいて、そのポリマ膜の光損失0.04dB/cmを実現することができた。