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特集「原子制御CVDが拓く新材料設計」企画趣旨

机译:特集「原子制御CVDが拓く新材料設計」企画趣旨

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摘要

二次元屑状物質のグラフェンをはじめとする新規低次元材料の合成に,化学気相合成(CVD)法は不可欠の手法である。合成研究の第一フェーズでは,「このような合成条件で合成することによって高品質のグラフェンが合成された」といった合成条件の最適化研究が一世を風靡した。それによる膨大なデータの蓄積によってCVDの物理と化学が原子レベルで明らかにされてきた。今や,グラフェンに限らず様々な材料で,思いのままに原子をならベようとする原子制御CVDのフェーズに突人しようとしている。しかも,単体のみならず,異種材料をも複合化して,それらのサイズ,結晶構造(原子配列)をコントロールして望みの物性値が得られるように合成する段階を迎えつつある。その様子を生々しく語って頂こうというのが本企画である。そのために著者の皆様には,新材料の設計思想や設計戦略にも言及頂けるようにお願いし,種々の材料系について最新の研究をご紹介頂いている。

著录项

  • 来源
    《表面と真空》 |2022年第4期|共1页
  • 作者

    久保利隆; 種村眞幸;

  • 作者单位

    産業技術総合研究所;

    名古屋工業大学 大学院工学研究科;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 日语
  • 中图分类 542D0022;
  • 关键词

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