首页> 外文期刊>Конструкции из композиционных материалов >Исследование влияния вариативной обработки твердосплавных пластин на плотность зарождения, морфологию и адгезионные характеристики алмазной пленки
【24h】

Исследование влияния вариативной обработки твердосплавных пластин на плотность зарождения, морфологию и адгезионные характеристики алмазной пленки

机译:研究碳化物板的可变处理对钻石膜出现,形态和粘合特性密度的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Рассмотрено влияние вариативной обработки поверхности твердосплавных пластин WC-Co на зарождение, структуру и фазовый состав алмазных пленок, полученных CVD-методом с использованием медного подслоя и суспензии ультрадисперсного алмаза (УДА). Определено, что сплошная алмазная пленка формируется на подслое меди или при сочетании медного подслоя и УДА. Установлено, что структура алмазной пленки состоит из сферических глобул при использовании медного подслоя, УДА и при их совместном осаждении на поверхности WC-Co. Однородная алмазная пленка с направленным ростом в плоскости (100) формируется при подготовке поверхности в четыре стадии: нанесение медного подслоя с последующими травлением в азотной кислоте, обработкой в суспензии УДА и повторным осаждением медного подслоя на поверхность WC-Co. Методом спектроскопии комбинационного рассеяния света (КР-спектроскопии) установлено, что вне зависимости от параметров обработки поверхности формируется алмазная фаза (1332 см~(-1)), однако положение алмазного пика определяется параметрами вариативной обработки поверхности. Установлено кристаллическое качество полученных покрытий по отношению интегральных интенсивностей sp~2/sp~3, определенных с помощью КР-спектроскопии. Минимальное содержание графитовых примесей (sp~2/sp~3 = 62) получено при обработке медного подслоя в УДА, а максимальное (sp~2/sp~3 = 105) - при обработке поверхности WC-Co только в УДА. Наилучшая адгезия пленки к подложке получена при использовании медного подслоя и при трехэтапной подготовке поверхности твердосплавных пластин.
机译:考虑了使用CVD方法使用铜三层铜和悬浮液的超少女钻石(UDI)悬架获得的WC-CO碳化物板表面的可变处理对钻石膜的起点,结构和相组成的影响。可以确定连续的钻石膜是在铜制层上形成的,或者结合了铜下层和最小值。已经确定,钻石膜的结构在使用铜覆盖仪以及将它们共同围困在WC-CO表面上时由球形地球仪组成。在四个阶段准备表面时,形成了平面中有指向生长的均匀钻石膜:施加铜弹丸,随后在硝酸中蚀刻,加工UDI悬浮并重新沉积铜sublayer WC-CO表面。光(CR-SpectRoscopicy)组合散射的光谱法(CR-SpectRoscopicy)确定,无论表面处理的参数如何,都会形成钻石相(1332 cm〜(-1)),但是,钻石峰的位置为由可变表面处理的参数确定。使用CR光谱确定的相对于集成强度SP〜2/SP〜3的涂层的结晶质量相对于集成强度SP〜2/SP〜3。当处理SPI中的铜subayer时,获得石墨杂质的最小含量(SP〜2/sp〜3 = 62),以及处理表面WC -CO时的最大值(SP〜2/sp〜3 = 105) - 仅在SPI中。当使用铜下层和三阶段制备碳化物板的表面时,获得了膜对底物的最佳粘附。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号