A L D向けH2O2ガス供給装置販売開始 大陽日酸

摘要

大陽日酸(市原裕史郎社長 CEO)とグループ会社の 米.R A S I R c (Jeffery SFIEGELMAN、カリフオル ニァ州)は半導体デバイス製 造プロセスのうち、Atomic Layer Deposition ( A L D ) 向けH2O2 (過酸化水素) ガス供給装置「peroxidizer」 を販売開始した。