...
首页> 外文期刊>Физика твердого тела: ФТТ >Рассеяние электронов и дырок глубокими примесями в полупроводниковых гетероструктурах с квантовыми ямами
【24h】

Рассеяние электронов и дырок глубокими примесями в полупроводниковых гетероструктурах с квантовыми ямами

机译:用量子凹坑的半导体异质结构深杂质中的电子散射和孔

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Исследовано рассеяние электронов и дырок системой глубоких примесей в полупроводниковых гетероструктурах на основе арсенида галлия с двумя квантовыми ямами в приближении предельно локализованного потенциала при произвольном профиле легирования. Показано, что зависимости вероятностей рассеяния в единицу времени для электронов и дырок от энергии носителя повторяют кусочно-постоянный вид плотности состояний подзон размерного квантования гетероструктуры с учетом вклада интеграла перекрытия волновых функций носителя. Для дырочных подзон с отрицательной эффективной массой вероятности рассеяния в единицу времени у краев подзон имеют сингулярности, характерные для одномерных систем.
机译:研究了基于砷化镓的半导体异质结构中具有两个量子阱的深杂质系统在任意掺杂剖面下极限局部化势近似中的电子和空穴散射现象。结果表明,考虑到载流子波函数重叠积分的贡献,电子和空穴的单位时间散射概率与载流子能量的关系重复了非均匀结构量子化子态密度的分段恒定形式。对于单位时间散射概率负有效质量的空穴子带,边缘子带具有一维系统特有的奇异性。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号