机译:CMOS Photonics的二维极端肌肤深度工程
Rochester Inst Technol Microsyst Engn Rochester NY 14623 USA;
Purdue Univ Sch Elect &
Comp Engn W Lafayette IN 47907 USA;
US Army Res Lab Adeiphi MD 20783 USA;
US Army Res Lab Adeiphi MD 20783 USA;
US Army Res Lab Adeiphi MD 20783 USA;
SUNY Albany Polytech Inst Albany NY 12203 USA;
SUNY Albany Polytech Inst Albany NY 12203 USA;
Rochester Inst Technol Microsyst Engn Rochester NY 14623 USA;
Air Force Res Lab Rome NY 13441 USA;
Rochester Inst Technol Microsyst Engn Rochester NY 14623 USA;
Purdue Univ Sch Elect &
Comp Engn W Lafayette IN 47907 USA;
Rochester Inst Technol Microsyst Engn Rochester NY 14623 USA;
机译:光子皮肤深度工程
机译:二维光子晶体和等频轮廓线的光子带隙工程
机译:平面光子晶体中的辐射损耗:通过虚介电常数二维表示孔的深度和形状
机译:二维光子结构极端各向异性的应用
机译:电子和光子应用的III型氮化物纳米线异质结构的极端能带工程。
机译:PNAS Plus:用于工程原子-光相互作用的二维光子晶体
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机译:二维湍流皮摩擦的快速工程计算